专利摘要:
透過型電子顕微鏡での試料の断層撮影検査に適した試料ホルダアセンブリ(500)であって、顕微鏡の鏡筒内に着脱可能に挿入可能になるように構成された細長い部材の形の本体部(501)と、第1の軸を有するマニピュレータ部とを含み、マニピュレータ部は、試料を支持するように構成された試料取付け部(510)と、本体部に対して試料取付け部を移動させるように動作可能な試料移動アセンブリと、本体部および試料移動アセンブリ(530)に結合された試料回転アセンブリ(540)であって、第1の軸の周囲で本体部に対して試料移動アセンブリを回転させるように動作可能である試料回転アセンブリとを含む試料ホルダアセンブリ。
公开号:JP2011514641A
申请号:JP2010550269
申请日:2009-03-16
公开日:2011-05-06
发明作者:ジェイムズ;ロックウッド アイデン;グアン ウェイ;モーブス ギュンター;シャオジン シュー;インクソン ビバリー;ゲイ ラルフ;ジン;ジン ワン
申请人:ザ ユニバーシティー オブ シェフィールド;
IPC主号:H01J37-20
专利说明:

[0001] 本発明は、試料傾斜システムに関する。詳細には、排他的ではないが、本発明は、3次元電子断層撮影法または他の高い傾斜範囲の顕微鏡による試料の検査を実行する際に使用するための試料傾斜システムに関する。]
背景技術

[0002] 電子断層撮影法は、試料の微細構造特性に関して3次元情報を2次元投影画像から得ることができるため、試料(すなわち「サンプル」)分析のための有力な技術として明らかになってきた。この技術によれば、投影画像データは、複数の異なる方向に沿って観察した試料の関心領域から得られる。通常、電子ビームによる照射を受けた試料は、ビームに対する増分量だけ軸の周囲を回転する。この試料の画像を、連続する回転角度で記録する。その後、そのように得られた画像を使用して、試料の3次元モデルを再現する。]
[0003] 試料に対して広い範囲の渡る入射角のビームの試料の電子投影画像を記録することができることは有利である。]
[0004] 断層撮影用計器の試料台の上で試料を回転させると、その結果、試料の関心領域は、有用な一連の画像を得るために試料位置の移動修正を必要とするのに十分に大きな量に従って、視野に対して移動し得ることがよく理解される。実際には、傾斜により引き起こされる試料の移動の問題は、高い倍率(たとえば、ほぼ100k程度またはそれ以上)で悪化する。試料の特定のナノスケール検査では、100kを超える倍率で試料を観察できることが重要である。]
[0005] 試料の回転における試料の好ましくない移動の結果、通常、計器の「視野」に対して試料の同じ空間位置を維持するために、各増分回転に続いて試料を移動させなければならない。試料の関心領域が視野に対してどれだけ遠くまで移動したかにより、そのような移動は容易でないことが多く、また不可能なことがある。]
[0006] 試料の好ましくない移動はまた、試料の回転および/または移動機構の機械的伝動装置のドリフトおよび/または反発に起因して発生することもある。]
[0007] いくつかの知られている電子顕微鏡(具体的には、サイドエントリ型の顕微鏡。図1(a)参照)では、試料1はホルダアセンブリ7の一方の端部に取り付けられ、ホルダアセンブリ7自体は、電子顕微鏡の鏡筒2のゴニオメータアセンブリ5内に挿入される。ゴニオメータアセンブリ5は、ホルダアセンブリ7がホルダアセンブリ7の軸7A周囲を回転できるように動作可能であり、ホルダアセンブリの軸7Aは、z軸(図1(b))に対して平行な方向である鏡筒2に沿って電子ビームEが通過する方向に概ね直角になるように構成される。] 図1
[0008] 本文書の目的のために、ホルダの軸7Aはx軸(図1(b))に沿って整列される。y軸は、xおよびz軸に対して垂直に方向付けられている。] 図1
[0009] ゴニオメータアセンブリ5はまた、電子ビームEが通過する方向に対して概ね垂直な(x,y)平面内でゴニオメータに対して2つの相互に直交する方向に沿って試料が位置決めされる試料ホルダの端部の移動を許容する。]
[0010] ゴニオメータアセンブリ5はまた、z軸に対して平行な方向に沿ってホルダアセンブリの位置(または「高さ」)を調整することを許容する。]
[0011] この後者の位置調整により、(i)試料の画像の焦点を調整すること、(ii)収差を最小限にするように対物レンズ内でz軸に沿って最適の平面へ試料を移動させること、および(iii)ホルダアセンブリがその軸7Aの周囲を回転するときに視野内の試料の関心領域の横方向の移動を低減させるように試料を位置決めすることができる。後者の調整は、「ユーセントリック高さ調整」と呼ばれる。ユーセントリック高さと最小収差の高さを同時に実現することは、常に可能であるわけではない。]
発明が解決しようとする課題

[0012] 従来技術のシステムには、ホルダアセンブリの軸7Aの周囲で試料を回転させると、その結果、x−y平面内で試料が過度に移動するという欠点がある。さらに、この移動の量は通常、予測できない。加えて、従来技術のシステムでは、限られた角度範囲でしか試料を傾斜させることができない。]
[0013] 試料ホルダアセンブリの既知の本質的限界は、傾斜はホルダアセンブリ全体に肉眼的な負担を課す。たとえば、いくつかのサイドエントリ型のホルダでは、ホルダアセンブリ7の一端部7’は、ホルダアセンブリ7の端部7’を把持して物理的に回転することにより、ホルダアセンブリ7の手動操作(たとえば、傾斜)を許容するゴニオメータ5から突き出す。]
[0014] 従来技術システムにはまた、試料または試料の一部を第2の試料または試料の第2の部分に対して回転および移動させることができないという欠点がある。]
課題を解決するための手段

[0015] 本発明の第1の態様では、透過型電子顕微鏡での試料の断層撮影検査に適した試料ホルダアセンブリであって、顕微鏡の鏡筒内に着脱可能に挿入可能に配置された細長い部材の形の本体部と、第1の軸を有するマニピュレータ部とを含み、マニピュレータ部は、試料を支持するように構成された試料取付け部と、本体部に対して試料取付け部を移動させるように動作可能な試料移動アセンブリと、本体部および試料移動アセンブリに結合された試料回転アセンブリであって、第1の軸の周囲で本体部に対して試料移動アセンブリが回転するように動作可能である試料回転アセンブリとを含む試料ホルダアセンブリが提供される。]
[0016] 断層撮影検査とは、試料が観察される方向に対して垂直な軸の周囲の試料の複数の異なるそれぞれの回転位置のそれぞれの試料の画像を取り込むことを意味する。]
[0017] 本発明のいくつかの実施形態には、試料の関心領域が、ビームラインの軸(z軸)に対して垂直な方向で所定の距離より移動することなく、電子、X線、または陽子ビームラインなどのビームラインに設置された試料は、ビームラインの軸に実質的に垂直な正確な軸の周辺で回転し得るという利点を有する。いくつかの実施形態では、これには、既知の断層撮影システムに対する関心領域の断層撮影画像を獲得するプロセス中、顕微鏡の視野に対する試料の位置の調整量が低減されるという利点を有する。]
[0018] 本発明のいくつかの実施形態は、電子、X線、および/または陽子ビームを使用するサンプルの高い傾斜範囲の回折分析に適していることが理解されるであろう。したがって、本発明のいくつかの実施形態では、断層撮影法による画像化は実行されない。むしろ、回折分析が実行される。]
[0019] いくつかの実施形態では、視野に対する固定の位置で試料の関心領域を維持するために必要な試料位置の明白な余剰移動調整は、幾何学上の考慮に基づいて容易に予測可能である。したがって、本発明のいくつかの実施形態は、そのような必要な調整を予期して修正するように構成される。しかし、たとえば顕微鏡が位置する環境の温度変化、または電子ビームにより引き起こされる試料の加熱による試料の「ドリフト」のための試料の移動の量など、いくつかの移動調整は、発生する室温の変動またはビームにより引き起こされる試料の加熱の量に関する予知がなければ、容易には予測できない。]
[0020] 本発明の実施形態は、透過型電子顕微鏡(TEM)、走査透過型電子顕微鏡(STEM)、走査電子顕微鏡(SEM)、集束イオンビーム(FIB)システム、X線顕微鏡、陽子ビーム顕微鏡、光学顕微鏡、ならびに赤外線(IR)およびテラヘルツ画像化デバイスを含む他の画像化デバイスなどの1つまたは複数の異なる計器とともに使用するのに適している。]
[0021] 本発明のいくつかの実施形態は、次のように、断層撮影法以外の分野で使用するのに適している。]
[0022] (i)試料の改変(たとえば、プログラム可能なナノファブリケーション)の目的で、集束電子またはイオンビーム下で試料を回転および移動させる。]
[0023] (ii)たとえばへこみまたは歪み測定実験の一部として、試料または重複する投影視野間の接触を確立する前に、第2の試料に対して特有の方位関係になるように第1の試料を回転させる。モアレ方法などのいくつかの歪み測定実験では、さらなる試料と重複して投影される試料を観察することにより試料内の歪みを測定し得ることが理解される。]
[0024] (iii)低い焦点深度のステレオロジ。180から360度の傾斜角度範囲にわたり試料の検査を可能にする非常に高い傾斜範囲(通常、断層撮影法には使用しない)により、コンピュータ体軸断層撮影法(CAT)ではなく、低い焦点深度のステレオロジに基づく高度な3次元観察方法が可能になる。180度反対の視野下の投影画像の等価性は当てはまらなくなり、両方の観察方向の観察能力が本質的な利点になる。サンプルの磁気TEM画像化およびホログラフィック画像化における関連する適用分野も存在する。]
[0025] 好ましくは、本体部は、実質上管状の部材の形である。]
[0026] 試料移動アセンブリは、実質上本体部内に設けることができる。]
[0027] 試料回転アセンブリは、実質上本体部内に設けることができる。]
[0028] 好ましくは、移動アセンブリは、第1移動アセンブリおよび第2移動アセンブリを含む。]
[0029] 好ましくは、第1移動アセンブリは、少なくとも1つの圧電アクチュエータを含む。]
[0030] 好ましくは、第1移動アセンブリの少なくとも1つの圧電アクチュエータは、スティックスリップモードで動作するように構成される。]
[0031] あるいは、またはさらに、第1移動アセンブリの少なくとも1つの圧電アクチュエータは、4象限圧電アクチュエータを含むことができる。]
[0032] 圧電アクチュエータを使用すると、試料の移動に関してナノメートルに満たない精度を実現することができるという利点がある。]
[0033] 第2移動アセンブリは、少なくとも1つの圧電アクチュエータを含むことができる。]
[0034] 第2移動アセンブリの少なくとも1つの圧電アクチュエータは、スティックスリップモードで動作するように構成することができる。]
[0035] あるいは、またはさらに、第2移動アセンブリの少なくとも1つの圧電アクチュエータは、4象限圧電アクチュエータを含むことができる。]
[0036] 試料取付け部は、第2移動アセンブリに結合されることが好ましく、第2移動アセンブリは、第1移動アセンブリに結合されることが好ましく、それによって第1移動アセンブリの移動は、第2移動アセンブリの対応する移動をもたらす。]
[0037] 好ましくは、試料移動アセンブリは、第1の軸に対して実質上平行な平面内の2つの平行でない方向に沿って、本体部に対して試料取付け部を移動させるように動作可能である。]
[0038] より好ましくは、試料移動アセンブリは、3つの実質上相互に直交する方向に沿って、本体部に対して試料取付け部を移動させるように動作可能である。]
[0039] 好ましくは、試料回転アセンブリは、回転アセンブリのシャフト部材の回転をもたらすように構成された圧電アクチュエータを含み、シャフト部材は、第1の軸と一致し、シャフト部材は、回転アセンブリのシャフト部材の回転によって第1の軸の周囲で第1移動アセンブリの回転を生じさせることができるように第1移動アセンブリに結合される。]
[0040] 好ましくは、ホルダアセンブリは、第3の移動器をさらに含み、第3の移動器は、マニピュレータ部の回転をもたらすように構成され、それによって第1の軸は、第1の軸に対して実質上垂直な軸の周囲を回転する。]
[0041] いくつかの実施形態では、第3の移動器が存在すると、ゴニオメータの回転の軸に対して実質上平行である方位に第1の軸を回転させることができるという利点を有する。]
[0042] 好ましくは、第3の移動器は、本体部に対してマニピュレータ部の回転をもたらすように構成される。]
[0043] 第3の移動器は、マニピュレータ部の第1の位置でマニピュレータ部に結合され、第1の軸に対して実質上垂直な平面内で本体部に対してマニピュレータ部の一部分を移動させるように配置された圧電アクチュエータアセンブリを含むことが好ましく、マニピュレータは、第1の軸に沿って第1の位置からずれたマニピュレータ部の第2の位置の周囲を枢動するように構成される。]
[0044] 本体部は中空のロッド部材を含むことが好ましく、その中に回転アセンブリおよび第1移動アセンブリが設けられる。]
[0045] 好ましくは、第2移動アセンブリの少なくとも一部分は、ロッド部材内に設けられる。]
[0046] 好ましくは、試料回転アセンブリは、第1の軸の周囲で少なくとも実質上250°の角度にわたる試料取付け部の回転を可能にするように構成される。]
[0047] より好ましくは、試料回転アセンブリは、第1の軸の周囲で実質上360°の角度にわたる試料取付け部の回転を可能にするように構成される。]
[0048] 試料回転アセンブリは、実質上1°未満、好ましくは実質上0.1°未満、より好ましくは実質上0.05°未満の刻みで試料取付け部を回転させるように動作可能にすることができる。]
[0049] 試料移動アセンブリは、実質上10nm未満、より好ましくは実質上1nm未満、さらに好ましくは実質上0.1nm未満の刻みで試料取付け部を移動させるように動作可能にすることができる。]
[0050] 好ましくは、ホルダは、試料取付け部内に取り付けられた試料の一部分が第1の軸と交差する位置へ試料取付け部を移動させるように動作可能である。]
[0051] ホルダは、補助試料取付け部を含むことができる。]
[0052] 好ましくは、補助取付け部は、本体部に結合される。]
[0053] ホルダは、試料取付け部によって支持された第1の試料を移動させて、補助試料取付け部によって支持された第2の試料と物理的に接触させるように動作可能にすることができる。]
[0054] 好ましくは、ホルダは、透過型電子顕微鏡のゴニオメータ部分内への挿入に適している。]
[0055] ホルダは、従来のサイドエントリ型の透過型電子顕微鏡の対物レンズ内に試料取付け部を着脱可能に挿入できるように構成されることが好ましい。]
[0056] ホルダは、真空ロードロックを介して対物レンズ内に試料取付け部を着脱可能に挿入できるように構成されることが好ましい。]
[0057] ホルダは、試料取付け部を所定の位置で支持するために、試料移動アセンブリまたは試料回転アセンブリを用いて試料取付け部を制御するように構成された制御装置を有することができる。]
[0058] したがって、いくつかの実施形態では、制御装置は、ユーザによるコマンドで試料を所定の位置で維持するように自動的に構成される。これには、試料の位置の手動制御に比べて、試料を所定の位置で支持する精度が増大されるという利点がある。]
[0059] 制御装置は、試料取付け部を所定の位置で支持するために、試料移動アセンブリおよび試料回転アセンブリを用いて試料取付け部を制御するように構成することができる。]
[0060] 制御装置は、試料取付け部内に設けられた試料を所定の位置で維持するように構成することができる。]
[0061] 所定の位置は、試料の画像の視野に対する位置とし得る。]
[0062] あるいは、所定の位置は、ホルダの本体部に対する位置とし得る。]
[0063] 所定の位置は、補助試料ホルダによって支持された試料からの所定の距離に対応し得る。]
[0064] 本発明の第2の態様では、いずれかの前記請求項に記載の試料ホルダと組み合わせた材料分析装置が提供される。]
[0065] この装置は、透過型電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、走査透過型電子顕微鏡、X線顕微鏡、X線回折計、陽子ビーム顕微鏡、イオンビーム顕微鏡、およびシンクロトロン放射ビームラインの中から選択されたものであることが好ましい。]
[0066] 本発明の一態様では、試料の断層撮影検査に適した試料ホルダアセンブリであって、本体部と第1の軸を有するマニピュレータ部とを含み、マニピュレータ部は、試料を支持するように構成された試料取付け部と、本体部に対して試料取付け部を移動させるように動作可能な試料移動アセンブリと、本体部および試料移動アセンブリに結合された試料回転アセンブリであって、第1の軸の周囲で本体部に対して試料移動アセンブリを回転させるように動作可能である試料回転アセンブリとを含む試料ホルダアセンブリが提供される。]
図面の簡単な説明

[0067] 本発明の実施形態について、添付の図を参照して次に説明する。
(a)は、電子顕微鏡の従来技術の試料ホルダとゴニオメータのアセンブリを示す図である。(b)は、図1(a)の図に対する基準軸の対応する方位を示す図である。
本発明の一実施形態によるホルダアセンブリの概略図である。
図2の実施形態によるホルダアセンブリのさらなる概略図である。
図2の実施形態による第1移動アセンブリの一部分のさらなる概略図である。
(a)は、本発明のいくつかの実施形態で使用される回転モータのスリップスティック構成の概略図である。(b)は、本発明のいくつかの実施形態で使用される第1移動アセンブリのスリップスティック構成の概略図である。
本発明のいくつかの実施形態によるホルダアセンブリの異なるそれぞれの回転軸を示す概略図である。
第3移動アセンブリを有するホルダアセンブリの概略図である。
第3移動アセンブリを有するホルダアセンブリの概略図である。
本発明のさらなる実施形態によるホルダアセンブリの概略図である。
(a)は、第1移動アセンブリの異なるそれぞれの構成を有する本発明の実施形態を示す図である。(b)は、第1移動アセンブリの異なるそれぞれの構成を有する本発明の実施形態を示す図である。(c)は、第1移動アセンブリの異なるそれぞれの構成を有する本発明の実施形態を示す図である。
回転位置センサを有する本発明の一実施形態による試料ホルダアセンブリの斜視切欠図である。
図9の試料ホルダアセンブリのさらなる斜視切欠図である。] 図1 図2 図9
実施例

[0068] 本発明の一実施形態では、ホルダアセンブリ100が提供される(図2)。ホルダアセンブリ100は、試料要素115がホルダアセンブリ100に結合するように配置された試料取付け部110を有する。取付け部110は、取付け部110を貫通して形成された開口を有し、この開口を覆って試料要素115が配置され、環状リング要素112を用いて開口に固定して取り付けられる。] 図2
[0069] いくつかの実施形態では、取付け部110はモジュール形式で提供され、1つまたは複数の異なる方法で、試料要素115は取付け部110に固定することを許容する。]
[0070] いくつかの実施形態では、試料要素115は従来型の支持格子の形で提供され、この支持格子をロッド部材に結合することができ、ロッド部材は、ロッドを受入れ開口内に挿入することにより、例えばタップ付き穿孔内にねじで留めることにより、ホルダアセンブリの取付け部110に結合させることができる。]
[0071] スプリングクリップ、ねじ板、および他の固定要素を含む、試料要素115を取付け部110に留める他の方法もまた有用である。]
[0072] 図2の実施形態では、取付け部110は、第1移動アセンブリ130および第2移動アセンブリ120を含む試料移動アセンブリに取り付けられる。取付け部110は、第2移動アセンブリ120の第1の端部121に取り付けられる。第1の端部121は、第2移動アセンブリ120の第2の端部122から軸方向にずれた第2移動アセンブリ120の自由端部である。第2の端部122は、第1移動アセンブリ130の第1の端部131に結合される。第1移動アセンブリ130の第2の端部132は、回転アセンブリ150のシャフト140に結合される。] 図2
[0073] 第1移動アセンブリ130は、x軸に対して概ね平行な方向且つx軸に対して垂直な方向に第2移動アセンブリ120の移動を可能にするように配置される。第2移動アセンブリ120は、x軸に沿って、且つx軸に対して垂直な2つの相互に直交する方向に沿って、試料取付け部110の移動を可能にするように配置される。]
[0074] いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ130および第2移動アセンブリ120はそれぞれ、3つの実質上直交する方向に試料取付け部110の移動を可能にするように配置される。]
[0075] 図2の実施形態において、第1移動アセンブリ130は、それぞれの移動ユニットを有する粗移動アセンブリであり、これらの移動ユニットはそれぞれ、スティックスリップ動作モードに従って動作可能な1対のせん断圧電駆動の形式である。図3(a)は、図2のホルダアセンブリ100のさらなる詳細の構成を示し、図3(b)は、第1移動アセンブリ130の拡大図である。] 図2
[0076] 図3(b)に示すように、第1移動アセンブリ130は、それぞれ実質上円筒形の部材の形である第1の支持部材133および第2の支持部材134を有する。
第2の支持部材134の一方の端部は、第1の支持部材の端部133Aに結合され、スリップスティック作動機構手段により、第1の支持部材133に対して移動可能に配置される。図3の実施形態では、第2の支持部材134は、第1の支持部材133および第2の支持部材134の長手方向軸に対して実質上垂直な方向に移動可能である。]
[0077] 具体的には、第1の支持部材133の端部133Aは溝部133Bを備え、溝部133B内で、第2の支持部材134の凸縁分134Cが摺動可能である。]
[0078] 第2の支持部材134の凸縁部134C内に実質上V字状の溝134Dが設けられ、その中で、実質上V字状の溝134Dの先端に対して平行な方向に第1の支持部材133に対して第2の支持部材134を容易に移動させるように、軸受けが設けられる(図示せず)。]
[0079] 第2の支持部材134の反対側の端部には、対応する構成が設けられ、第3の支持部材135が第2の支持部材134に対して移動可能になるように構成される。第1の支持部材133の端部133A内に形成された溝部133Bと同様に、第2の支持部材134の長手方向軸に対して実質上垂直な方向に沿って、溝部134Bが設けられる。]
[0080] 第3の支持部材135は、その端部に形成された凸縁部135Cを有し、凸縁部135Cがスリップスティック作動機構を用いて溝部134B内で摺動可能になるように配置される。第2の支持部材134の凸縁134Cおよび溝134Bの相対的な方位は、第2の支持部材および第3の支持部材が、第1の支持部材133に対して実質上直交する方向で移動可能になるような方位である。]
[0081] 第2移動アセンブリ120は、図3(a)に示すように、4象限ピエゾチューブ(piezo−tube)125の形の比較的細い移動アセンブリである。チューブ125は、チューブ125の象限のうちの1つまたは複数に適切な電位を印加することによって、x軸に対して平行な方向で、またx軸に対して垂直な2つの相互に直交する方向に沿って、チューブの第1の端部121を第2の端部122に対して偏向させるように動作可能である。]
[0082] 4象限のそれぞれに電位を印加すると、x軸に対して平行な方向で第2の端部122の移動をもたらすことが理解されるであろう。]
[0083] 上述のように、移動アセンブリ120、130は、シャフト部材140に結合され、シャフト部材140は試料回転アセンブリ150に順に結合される。試料回転アセンブリ150は、チューブ部材160内に設けられた回転アクチュエータ部152(図2)を有する。チューブ部材160は、ホルダアセンブリ100の本体部の一部とすることができ、またはホルダアセンブリ100の本体部に堅固に結合させることができる。回転アセンブリ150は、シャフト部材140の回転運動を生じさせるように、せん断動作モードに従って構成される2対の圧電要素により動作可能である。] 図2
[0084] 移動アセンブリ120、130は、移動アセンブリ120、130を用いて試料115の移動を生じさせてシャフト部材140の回転軸上または回転軸近傍に関心領域を位置決めできるように構成される。]
[0085] 図4(a)は、試料回転アセンブリ150の回転アクチュエータ部152の構造の断面概略図である。ホルダアセンブリ100のシャフト部材140は、回転アセンブリ150を通過し、2対の圧電結晶と当接した状態で維持される。回転アセンブリ150の1対の結晶153、154を図4(a)に示す。結晶153、154は、シャフト部材140の直径に沿って反対側に設けられる。これらの2対は、長手方向軸に沿って相互に隔置され、チューブ部材160に対して固定された回転アセンブリ150の枠に固定して取り付けられる。] 図4
[0086] シャフト部材140の回転運動を生成するために、結晶153のうちの1つに電位を印加して結晶のせん断を引き起こし、それによってシャフト部材140と当接する結晶153の面が、第1の接線方向T1でシャフト部材140に対してずれる。第1の接線方向のずれは、摩擦のためにホルダアセンブリ100の長手方向軸の周囲でシャフト部材140の回転をもたらすのに十分なほどゆっくりと実行される。図示の例では、シャフト部材140の回転は、図に示す方位に対して反時計回りの方向で発生する。]
[0087] 次いで、結晶153は、結晶153の面をシャフト部材140の表面上で摺動させるのに十分なほど急速にその形状に戻り、したがってシャフト部材140の回転を誘発しない。言い換えれば、結晶153の面は、シャフト部材140の表面に対して「スリップ」する。]
[0088] 一方の結晶153のせん断に続いて、他方の結晶154に同様に電位が印加され、それによってシャフト部材140のさらなる回転をもたらす。いくつかの実施形態では、結晶153、154対のせん断変形を実質上同時に実行することができる。他の動作順序もまた有用である。]
[0089] 図1から4の実施形態では、回転アセンブリ150は、たとえばいくつかの自動焦点カメラレンズアセンブリで使用されるようないくつかの知られている高速超音波アクチュエータとは異なることに留意されたい。いくつかの実施形態では、回転アセンブリ150は、段階的なモードで動作するように構成され、またいくつかの実施形態では、1°程度の角度間隔を有する回転位置への試料取付け部の増分回転に最適化される。] 図1
[0090] いくつかの実施形態では、アセンブリは、0.1°以下の角度間隔を有する回転位置への試料取付け部の増分回転を可能にするように構成される。他の角度間隔もまた有用である。]
[0091] 使用の際には、ホルダアセンブリ100は、電子顕微鏡の鏡筒2のゴニオメータアセンブリ5内に設置することができる(図1)。いくつかの顕微鏡では、ゴニオメータアセンブリ5は、取付け部110に結合された試料要素115が顕微鏡の視野内に入るようなホルダアセンブリ100の粗移動を可能にするように構成される。] 図1
[0092] いくつかの実施形態では、ホルダアセンブリ100は、少なくともゴニオメータアセンブリ5が所定の構成であるときには試料115が顕微鏡の視野内に入るように構成される。たとえば、所定の構成は、ゴニオメータの傾斜角度が特定の範囲内であること、および/またはホルダアセンブリの1つもしくは複数の試料移動アセンブリもしくは回転アセンブリの位置が特定の位置範囲内であることを必要とする可能性がある。]
[0093] 取付け部110内の試料115を有するホルダアセンブリ100を設置した後、試料115の関心領域116が試料回転アセンブリ150の回転軸と一致するまで、移動アセンブリ120、130を調整することができる。この目的を達成するために、本発明のいくつかの実施形態では、顕微鏡の試料ホルダアセンブリの移動装置を用いたホルダアセンブリ100の移動は、移動アセンブリ120、130を用いた試料の移動を加えて実行するかもしれないことが理解される。]
[0094] 試料の関心領域が回転アセンブリ150の回転軸と一致して顕微鏡の視野内に入った後、試料傾斜アセンブリ150を作動し、試料取付け部110を一連の角度位置へ回転させ、それぞれの角度位置で、試料の投影電子画像を記録する。次いで、記録された画像を、知られている電子断層撮影法の再構成アルゴリズムに従って処理し、関心領域116の微細構造の3次元図を得る。]
[0095] 異なるそれぞれの傾斜角度での一連の画像の獲得中に顕微鏡の視野内で関心領域116が動くと、関心領域の位置を調整する必要を招くであろうことが理解される。このため、第2移動アセンブリ120(または、厳密な移動の場合、加えてまたは代わりに第1移動アセンブリ130)を使用して試料を移動させることが必要になるであろう。]
[0096] ホルダアセンブリ100の構造内の機械的な不正確さのための関心領域の移動の補償に加えて、たとえば試料の加熱または帯電のための試料の「ドリフト」も、この方法によって補償することができる。]
[0097] いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ130は、第1移動アセンブリ130が回転アセンブリ150に対して基準位置に設定され、また第2移動アセンブリ120が所定の構成であるとき、第2移動アセンブリ120のピエゾチューブの軸が回転アセンブリ150の回転軸と実質上整合するように配置される。示された構成は、4象限アクチュエータの4つの象限のうちの1つまたは複数に1組のデフォルト電位を印加することが必要になる可能性がある。]
[0098] いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ130は、シャフト部材140に結合されたシャフトに結合される。いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ130は、シャフト部材140に直接結合される。]
[0099] 試料回転および移動アセンブリが従来の電子顕微鏡ゴニオメータ5内に挿入可能になるように構成された本発明のいくつかの実施形態では、ゴニオメータ5の回転軸5Aは、回転アセンブリ150の回転軸と一致しない可能性があることが理解される。]
[0100] そのような状況を、本発明の実施形態に従うホルダアセンブリ100の試料回転アセンブリ100の回転軸150Aとともに、ゴニオメータ5の回転軸5Aが示された図5に説明する。回転アセンブリ150の「平均」回転軸Aも示す。「平均」回転軸Aは、この例では、軸5A、150Aのそれぞれと等しい角度を向き、軸5A、150Aのそれぞれと同一平面上にある軸である。] 図5
[0101] 本発明のいくつかの実施形態は、回転アセンブリ150の回転軸150Aがゴニオメータ5Aの回転軸と平行に整合するような軸の周囲で回転アセンブリ150を回転させることによって、軸5A、150Aの不整合の問題を克服しようとする。]
[0102] さらに、いくつかの実施形態では、回転アセンブリ150の回転軸150Aの空間位置は、シャフト部材140の回転プロセス中に変動することがある。この結果、顕微鏡の視野に対して、試料の関心領域116の位置の変動が生じ得る。]
[0103] いくつかの実施形態では、回転アセンブリ150の回転軸150Aの位置を調整できると、第1移動アセンブリ130および/または第2移動アセンブリ120を使用して行われる試料位置の調整とは独立して、シャフト部材140の回転中に試料位置の変動を補償することができる。]
[0104] 図6(a)は、ホルダアセンブリ200が、実質上図2から4の実施形態に関して記載された特徴を備える本発明の一実施形態を示す。対応する特徴には類似の参照符号で標識を付け、頭には数字「1」ではなく数字「2」を付けた。] 図2
[0105] さらに、試料回転アセンブリ250は、第1移動アセンブリ230に結合された端部とは反対側の回転アセンブリ250の端部250Fで、第3移動アセンブリ280に結合される。第3移動アセンブリ280は、回転アセンブリ250の端部250Fの移動をもたらすように構成される。いくつかの実施形態では、第3移動アセンブリ280は、端部250Fに直接結合されたスリップスティックアクチュエータなどの移動アクチュエータを含む。端部250Fを移動させるための他の機構もまた有用である。]
[0106] 端部250Fから軸方向にずれた回転アセンブリ250の一部分に当接し、回転アセンブリ250の端部250Fの移動が回転アセンブリ250の回転軸の回転をもたらすように、回転アセンブリ250の移動を抑制する軸受け271が設けられる。1対の軸受け271を図6(a)に示すが、2対以上の軸受けを使用できることが理解される。]
[0107] 第3移動アセンブリ280は、回転アセンブリ250による試料の回転プロセス中、ユーザにとって関心のある試料の領域が必要な位置に留まるように、ユーザが回転アセンブリ250の回転軸の位置を調整できるように構成される。]
[0108] いくつかの実施形態では、第3移動アセンブリ280の動きは、第1移動アセンブリ230および第2移動アセンブリ220の動きに対して補完的である。]
[0109] いくつかの実施形態では、第3移動アセンブリ280により回転アセンブリ250の回転軸250Aを移動させ、それによって対物レンズの光軸と交差させることができる。]
[0110] いくつかの実施形態では、第3移動アセンブリ280により、回転アセンブリ250の回転軸250Aとゴニオメータ5の回転軸5A(図5)を、互いに対して実質上平行に、または互いと実質上一致するように整合させることができる。] 図5
[0111] 図6(b)は、第3移動アセンブリ280’が、ホルダアセンブリのマニピュレータ部の試料回転アセンブリ250’に結合されたロッド部材283を偏向させるように動作可能な第1の圧電アクチュエータ282の形で設けられる一実施形態を示す。図6(b)の実施形態では、ロッド部材283は、試料回転アセンブリ250’が第1移動アセンブリ(図示せず)をその周囲で回転させるように動作可能な軸と実質上同軸である。]
[0112] 第1の圧電アクチュエータ282は、長さを増大し、それによって試料回転アセンブリ250’が第1移動アセンブリをその周囲で回転させるように動作可能な軸の回転をもたらすように動作可能である。]
[0113] ロッド部材283の第1の圧電アクチュエータ282とは反対側に、第1の弾性部材284がスペーサブロックの形で設けられる。第1のアクチュエータ282が延びると、ロッド部材283は基準位置から第1の弾性部材284の方へ偏向して、それによって、第1の弾性部材284が弾性的に圧縮される。]
[0114] その後、第1のアクチュエータ282が収縮すると、第1の弾性部材284は、圧縮していない状態の方へ延びる。これにより、ロッド部材283は再び、基準位置の方へ曲がる。マニピュレータ部の回転を容易にするように、軸受け271’が設けられる。いくつかの実施形態では、第2の圧電アクチュエータ(図示せず)および対応する第2の弾性部材を設けて、第1のアクチュエータ282およびロッド部材283の軸に対して実質上垂直に向け、第2のアクチュエータは、第1のアクチュエータ282がその周囲でマニピュレータアセンブリの回転をもたらすように構成される軸に対して実質上垂直な軸の周囲で、マニピュレータアセンブリの回転をもたらすように構成される。]
[0115] いくつかの実施形態では、第1のアクチュエータおよび第2のアクチュエータはロッド部材283に結合され、したがって第1の弾性部材および第2の弾性部材を必要としない。]
[0116] いくつかの実施形態では、第1の圧電アクチュエータおよび第2の圧電アクチュエータはピエゾチューブ部材の形であり、これらはそれぞれ、チューブ部材の電極に適切な電位が印加されるとそれぞれのチューブ部材の長手方向軸に沿って延びるように構成される。]
[0117] 図7は、図2の実施形態の特徴を有する試料ホルダアセンブリ300が提供される本発明の一実施形態を示す。] 図2 図7
[0118] 図2の実施形態の特徴と共通している図7の実施形態の特徴には類似の参照番号で標識を付け、頭には「1」ではなく数字「3」を付けた。] 図2 図7
[0119] 図7に示すように、第1試料取付け部310に加えて、第2試料取付け部312が設けられる。図7の実施形態では、ホルダアセンブリ300は枠部分301を有し、枠部分301には第2試料取付け部312が取り付けられる。ホルダアセンブリ300は、第1移動アセンブリ330および第2移動アセンブリ320ならびに回転アセンブリ350を用いて、第2試料取付け部312に対して第1試料取付け部310を移動させて回転できるように構成される。] 図7
[0120] いくつかの実施形態では、ホルダアセンブリ300が中に取り付けられたゴニオメータ5の回転によって、電子顕微鏡の鏡筒2を通過する電子ビームに対して第2試料取付け部312の回転を生じさせ、それによってホルダアセンブリ300全体の回転をもたらすことができ、一方、ホルダアセンブリ300が中に取り付けられたゴニオメータの回転により、またはホルダアセンブリ300の回転アセンブリ350の回転により、電子ビームに対して第1試料取付け部310の回転を生じさせることができることが理解される。]
[0121] いくつかの実施形態では、ホルダアセンブリ300は、第1試料取付け部310および第2試料取付け部312に位置する試料を顕微鏡の視野内で同時に提供できるように構成される。]
[0122] いくつかの実施形態では、アセンブリ300により、第1試料取付け部310により保持された試料と第2試料取付け部312によって保持された試料を物理的に接触させることができる。したがって、本発明のいくつかの実施形態のホルダアセンブリは、材料間の接触力学に関するナノスケール研究などの適用分野で使用することができる。したがって、本発明のいくつかの実施形態は、ナノインデンテーション実験、材料製作技術、および測定学で使用することができる。]
[0123] いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ330は、基準位置に対して最大±0.5mm以下の距離、x軸を含む1つまたは複数の直交軸に沿って第2移動アセンブリ320の移動を可能にするように構成される。]
[0124] ±0.5mmより大きいか小さいかにかかわらず、他の距離もまた有用である。いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ330は、最大±1mm以下の距離、x軸を含む1つまたは複数の直交軸に沿って第2移動アセンブリの移動を可能にするように構成され、一方他の実施形態では、この距離は±0.25mmである。]
[0125] いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ330は、3つの相互に直交するx、y、z軸に沿って第2移動アセンブリ320の移動を可能にするように構成される。]
[0126] いくつかの実施形態では、第2移動アセンブリ320は、第2移動アセンブリ320の移動の範囲内で所定の位置から1nmの範囲内まで、直交するx、y、z方向に沿って試料取付け部の移動を可能にするように構成される。]
[0127] 図8(a)は、第1移動アセンブリ430が4象限ピエゾチューブの形式で提供され、また第2移動アセンブリ420がさらなる4象限ピエゾチューブにより提供される一実施形態を示す。図8(a)の実施形態では、第1移動アセンブリ430のピエゾチューブは、3つの相互に実質上直交する方向に沿って第2移動アセンブリを移動させるように構成され、第2移動アセンブリ420は、対応する形であるが、それぞれの移動アセンブリのピエゾチューブ間の寸法の違いによる小さな距離、試料取付け部412を移動させるように構成される。] 図8
[0128] いくつかの代替的実施形態では、スリップスティックアクチュエータに加えて、4象限ピエゾチューブにより第1移動部材430が提供される。いくつかの実施形態では、第1移動アセンブリ430の4象限ピエゾチューブは、x軸に沿って少なくとも100ミクロン、またx軸に対して垂直な軸に沿って少なくとも100ミクロン、第2移動アセンブリ420の移動を可能にする。いくつかの実施形態では、この距離は、一方のまたは両方の軸に沿って少なくとも500ミクロンである。]
[0129] いくつかの実施形態では、本明細書に記載のような4つの象限(または「区分」)を有する1つまたは複数の4象限ピエゾチューブを、異なる数の区分を有するピエゾチューブに取り替えることができることが理解される。]
[0130] 図8(b)は、本発明の代替的実施形態による第1移動アセンブリを示す。ここでは、図3(b)に示す機構に類似しているさらなるスリップスティック作動機構によるx軸に対して垂直な方向に沿った移動に加えて、第2移動アセンブリ630の軸方向の移動(すなわち、x軸に対して平行な移動)がスリップスティック作動機構635Aにより容易になる。軸方向の移動運動(x軸に対して平行)は、図3(b)に示す機構に類似しているスリップスティック作動機構に従って試料を移動させるように構成された圧電要素により容易になる。] 図8
[0131] 図8(c)および(d)は、単一の凸縁と溝の構成を用いて第2移動アセンブリの移動を可能にする、x軸とy軸を組み合わせた移動アクチュエータを有する第1移動アセンブリを示す。図8(c)および(d)の実施形態では、第1移動アセンブリは、第1の支持部材433および第2の支持部材434を含み、第1の支持部材433および第2の支持部材434は、第2の支持部材434の凸縁部434Cおよび第1の支持部材433の対応する溝433Bを用いてともに結合される。] 図8
[0132] 凸縁部434Cは圧電材料の2対の板436、437を備え、各対436、437の一方の板は凸縁部434Cの両側のそれぞれの上に設けられ、第1の支持部材433の溝部433Bの対向する実質上平行の内面433B’間に挟まれる。]
[0133] 一方の対の板436の板は、他方の対437の板に対して、第1の支持部材433の溝部433Bの内面433B’に対して平行な平面内で相互に直交する方向に第2の支持部材434の移動を生じさせることができるような結晶方位を有する。]
[0134] 図8(c)および(d)の実施形態では、板436は、y軸に対して平行な方向に第2の支持部材を移動させるように配置され、一方板437は、x軸に対して平行な方向に第2の支持部材を移動させるように配置される。他の構成もまた有用である。] 図8
[0135] 本発明のいくつかの実施形態による装置は、ナノファブリケーションの適用分野を含む異なる適用分野の範囲内で使用できることが理解される。たとえば、本発明のいくつかの実施形態では、イオンビームなどのビームライン内でワイアを回転させることにより、ワイアを鋭利にして直径20nm以下の「ナノチップ」の形成を実行することができる。いくつかの実施形態では、いくつかの実施形態による装置が、集束イオンビーム(FIB)のミリング装置内に設置される。]
[0136] 本発明のいくつかの実施形態では、たとえばホルダ装置の電子制御装置によって回転アセンブリ150のシャフト140の回転位置を決定できる手段が提供される。]
[0137] 図9は、回転位置センサ590(Sentron AG Angle Sensor 2SA−10)が設けられた試料ホルダアセンブリ500を示す。センサ590は、ホルダアセンブリ500の回転アセンブリ550のシャフト540に結合された強磁性円板部分591と、ホルダアセンブリ500の本体部501に対して固定の方位で設けられたチップパッケージ592内に設けられたCMOSホール回路とを有する。] 図9
[0138] 位置センサ590は、シャフト540の回転位置に対応する出力を与え、それによって、ホルダアセンブリ500の操作者および/または算出装置などの制御装置に位置フィードバックを与えることができる。]
[0139] 位置センサ590が存在すると、操作者は、シャフト540(また、その結果、サンプルホルダ510)が所与の瞬間に所定の位置にあることを確信できるという利点がある。]
[0140] 回転位置センサ590をもたないいくつかの実施形態では、実行されたスティックスリップ作動ステップの数など、回転アセンブリ550に与えられる制御信号に基づいて、試料取付け部510の回転位置を決定することができる。所与の1組のスティックスリップ作動パラメータ(印加電圧、印加電圧のスイッチング速度など)に対して各スティックスリップ作動ステップの大きさを測定し、所定の条件下でスティックスリップ作動ステップごとの基準の回転の大きさを提供することができる。次いで、所与の方向で生じる回転量は、逆方向で実行された作動の数を減じて、その方向で実行されたスティックスリップ作動の数を参照することによって決定することができる。]
[0141] しかし、そのような方法には、たとえば回転アセンブリの温度変化および/または圧電結晶の老化のため、シャフト540が所与の1組の作動パラメータの下で所与の方向に回転する量が時間とともに変化する可能性があるという欠点がある。]
[0142] いくつかの実施形態では、顕微鏡下で観察されるサンプルの画像、またはサンプルホルダの一部分もしくはホルダアセンブリの任意の他の適切な部分の画像を記録して、サンプルの現在の位置に関する情報を提供するために使用することができる。その後、この情報を使用して、必要な位置にサンプルを移動させるように、および/または必要な位置でサンプルを維持するように、ホルダアセンブリを制御することができる。たとえば、この情報を使用して、サンプルホルダ内で支持されたサンプルの所与の領域を、顕微鏡の視野内の実質上一定の位置で維持することができる。したがって、この情報を使用して、試料のドリフト、たとえば熱ドリフトを補償することができる。]
[0143] 第1試料取付け部310、510および第2試料取付け部312、512を有する図7または図9の実施形態などのいくつかの実施形態では、この情報を使用して、第2試料取付け部に対する第1試料取付け部の位置を制御することができる。たとえば、試料ホルダアセンブリ300、500の制御装置は、第2試料取付け部312、512に対して所定の位置へ第1試料取付け部310、510を移動させるように構成することができる。制御装置は、第1試料取付け部310、510によって支持された試料が第2試料取付け部312、512によって支持された試料に対して所定の位置にくるように、第1試料取付け部310、510を移動させるように構成することができる。所定の位置は、それぞれの試料間の所定の距離、または試料間の接触が発生する位置に対応することができる。] 図7 図9
[0144] 上述のように、図9の実施形態では、回転アセンブリ550が設けられた端部とは反対側のアセンブリ500の端部に、試料取付け部510が設けられる。このアセンブリは、アセンブリ500の本体部501によって支持された補助(または2次)試料取付け部512を有し、補助試料取付け部512は、第2の試料を支持するように構成される。いくつかの実施形態では、本体部を枠部分と呼ぶことがある。] 図9
[0145] この装置は、投影の際に第1の試料が第2の試料に重複するように、すなわち電子ビームが顕微鏡の鏡筒に沿って進む方向に沿って、試料取付け部510によって支持された第1の試料を操作するように動作可能にすることができることが理解される。この特徴は、さらなる試料と重複して投影される試料を観察することによって試料の歪みを測定できるモアレ方法を使用する歪み測定実験などの実験では特に重要なものである。上記で論じたように、この装置の制御装置は、顕微鏡によって制御装置に提供される試料の画像に基づいて、第1の試料を操作して第2の試料に重複する関係になるように構成することができる。]
[0146] 本明細書の記載および特許請求の範囲全体にわたって、「含む(comprise)」および「含有する(contain)」という言葉、ならびにこれらの言葉の変形、たとえば「含む(comprising)」および「含む(comprises)」は、「含むがそれに限定されるものではない」ことを意味し、他の部分、添加物、構成要素、整数、またはステップを排除しようとするものではない(また排除しない)。]
[0147] 本明細書の記載および特許請求の範囲全体にわたって、文脈上異なる解釈を要する場合を除き、単数形は複数形を包含する。特に、不定冠詞を使用する場合、本明細書は、文脈上異なる解釈を要する場合を除き、単数形だけでなく複数形も予期するものとして理解されるべきである。]
[0148] 本発明の特定の態様、実施形態、または例と組み合わせて記載した特徴、整数、特性、化合物、化学部分、または群は、適合しない場合を除き、本明細書に記載の任意の他の態様、実施形態、または例にも適用できると理解されるべきである。]
权利要求:

請求項1
透過型電子顕微鏡における試料の断層撮影検査に適した試料ホルダアセンブリであって、前記顕微鏡の鏡筒内に着脱可能に挿入可能になるように配置された細長い部材の形の本体部と、第1の軸を有するマニピュレータ部とを含み、前記マニピュレータ部は、前記試料を支持するように構成された試料取付け部と、前記本体部に対して前記試料取付け部を移動させるように動作可能な試料移動アセンブリと、前記本体部および前記試料移動アセンブリに結合された試料回転アセンブリであって、前記第1の軸の周囲で前記本体部に対して前記試料移動アセンブリを回転させるように動作可能である、試料回転アセンブリとを試料ホルダアセンブリ。
請求項2
前記本体部は、実質上管状の部材の形である請求項1に記載のホルダアセンブリ。
請求項3
前記試料移動アセンブリは、実質上前記本体部内に設けられる請求項1または請求項2に記載のホルダアセンブリ。
請求項4
前記試料回転アセンブリは、実質上前記本体部内に設けられる前記請求項のいずれかに記載のホルダアセンブリ。
請求項5
前記試料移動アセンブリは、前記第1の軸に対して実質上平行な平面内の2つの平行でない方向に沿って、前記本体部に対して前記試料取付け部を移動させるように動作可能である前記請求項のいずれかにに記載のホルダ。
請求項6
前記試料移動アセンブリは、3つの実質上相互に直交する方向に沿って、前記本体部に対して前記試料取付け部を移動させるように動作可能である請求項5に記載のホルダ。
請求項7
前記移動アセンブリは、第1移動アセンブリおよび第2移動アセンブリを含む前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項8
前記第1移動アセンブリは、少なくとも1つの圧電アクチュエータを含む請求項7に記載のホルダ。
請求項9
前記第1移動アセンブリの前記少なくとも1つの圧電アクチュエータは、スティックスリップモードで動作するように構成される請求項8に記載のホルダ。
請求項10
前記第1移動アセンブリの前記少なくとも1つの圧電アクチュエータは、4象限圧電アクチュエータを含む請求項8または請求項9に記載のホルダ。
請求項11
前記第2移動アセンブリは、少なくとも1つの圧電アクチュエータを含む請求項7から10のいずれかに記載のホルダ。
請求項12
前記第2移動アセンブリの前記少なくとも1つの圧電アクチュエータは、スティックスリップモードで動作するように構成される請求項11に記載のホルダ。
請求項13
前記第2移動アセンブリの前記少なくとも1つの圧電アクチュエータは、4象限圧電アクチュエータを含む請求項11または請求項12に記載のホルダ。
請求項14
前記試料取付け部は、前記第2移動アセンブリに結合され、前記第2移動アセンブリは、前記第1移動アセンブリに結合され、それによって前記第1移動アセンブリは、前記第2移動アセンブリを移動させるように動作可能である請求項7から13のいずれかに記載のホルダ。
請求項15
前記試料回転アセンブリは、前記回転アセンブリのシャフト部材の回転をもたらすように構成された圧電アクチュエータを含み、前記シャフト部材は、前記第1の軸と実質上一致し、前記シャフト部材は、前記シャフト部材の回転が前記第1の軸の周囲で前記第1移動アセンブリの回転をもたらすように前記第1移動アセンブリに結合される前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項16
前記ホルダアセンブリは、第3の移動器をさらに含み、前記第3の移動器は、前記マニピュレータ部の回転をもたらすように構成され、それによって前記第1の軸は、前記第1の軸に対して実質上垂直な軸の周囲を回転する請求項15に記載のホルダ。
請求項17
前記第3の移動器は、前記本体部に対して前記マニピュレータ部の回転をもたらすように構成され請求項16に記載のホルダ。
請求項18
前記第3移動器は、前記マニピュレータ部の第1の位置で前記マニピュレータ部に結合され、前記第1の軸に対して実質上垂直な平面内で前記本体部に対して前記マニピュレータ部の一部分を移動させるように構成された圧電アクチュエータアセンブリを含み、前記マニピュレータは、前記第1の軸に沿って前記第1の位置からずれた前記マニピュレータ部の第2の位置の周囲を枢動するように構成されることを特徴とする請求項16または請求項17に記載のホルダ。
請求項19
前記試料回転アセンブリは、前記第1の軸の周囲で少なくとも実質上250°の角度にわたる前記試料取付け部の回転を可能にするように構成される前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項20
前記試料回転アセンブリは、前記第1の軸の周囲で実質上360°の角度にわたる前記試料取付け部の回転を可能にするように構成される請求項19に記載のホルダ。
請求項21
前記試料回転アセンブリは、実質上1°未満、好ましくは実質上0.1°未満、より好ましくは実質上0.05°未満の刻みで前記試料取付け部を回転させるように動作可能である前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項22
前記試料取付け部の回転位置を決定する手段を備える前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項23
回転位置を決定する前記手段は、磁界源および磁界センサを含む請求項22に記載のホルダ。
請求項24
前記磁界源および前記磁界センサのうちの一方は、前記試料ホルダ部分とともに回転するように構成され、前記磁界源および前記磁界センサのうちの他方は、前記本体部に対して実質上固定の方位に留まるように構成される請求項23に記載のホルダ。
請求項25
前記磁界センサは、ホールプローブを含む請求項23または24に記載のホルダ。
請求項26
前記試料移動アセンブリは、実質上10nm未満、より好ましくは実質上1nm未満、さらに好ましくは実質上0.1nm未満の刻みで前記試料取付け部を移動させるように動作可能である前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項27
前記ホルダは、前記試料取付け部内に取り付けられた試料の一部分が前記第1の軸と交差する位置へ前記試料取付け部を移動させるように動作可能である前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項28
第2の試料を支持するように構成された補助試料取付け部をさらに含む前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項29
前記補助取付け部は、前記本体部に結合される請求項28に記載のホルダ。
請求項30
前記試料取付け部によって支持された第1の試料を移動させて、前記補助試料取付け部によって支持された第2の試料と物理的に接触させるように動作可能である請求項28または29に記載のホルダ。
請求項31
前記試料取付け部によって支持された第1の試料を移動させて、前記顕微鏡で投影の際に観察すると前記第2の試料に重複する関係になるように動作可能である請求項28から30のいずれか一項に記載のホルダ。
請求項32
透過型電子顕微鏡のゴニオメータ部分内への挿入に適している前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項33
従来のサイドエントリ型の透過型電子顕微鏡の対物レンズ内に前記試料取付け部を着脱可能に挿入できるように構成される前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項34
真空ロードロックを介して前記対物レンズ内に前記試料取付け部を着脱可能に挿入できるように構成される請求項33に記載のホルダ。
請求項35
前記試料取付け部を所定の位置で支持するために、前記試料移動アセンブリまたは前記試料回転アセンブリを用いて前記試料取付け部を制御するように構成された制御装置を有する前記請求項のいずれかに記載のホルダ。
請求項36
前記制御装置は、前記試料取付け部内に設けられた試料を所定の位置で維持するように構成される請求項1から34のいずれかに記載のホルダ。
請求項37
前記所定の位置は、前記試料の画像の視野に対する位置である請求項35または36に記載のホルダ。
請求項38
前記所定の位置は、前記ホルダの本体部に対する位置である請求項35または36に記載のホルダ。
請求項39
前記所定の位置は、前記補助試料ホルダによって支持された試料からの所定の距離に対応する請求項28から31のいずれか一項に従属する請求項35または36に記載のホルダ。
請求項40
前記請求項のいずれかに記載の試料ホルダと組み合わせる材料分析装置。
請求項41
前記装置は、透過型電子顕微鏡、走査電子顕微鏡、走査透過型電子顕微鏡、X線顕微鏡、X線回折計、陽子ビーム顕微鏡、イオンビーム顕微鏡、およびシンクロトロン放射ビームラインの中から選択されたものである請求項40に記載の装置。
請求項42
実質的に、添付の図面を参照して本明細書で上記に記載した試料ホルダアセンブリ。
請求項43
実質的に、添付の図面を参照して本明細書で上記に記載した材料分析装置。
請求項44
実質的に、添付の図面を参照して本明細書で上記に記載した透過型電子顕微鏡。
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同族专利:
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CN102027562A|2011-04-20|
引用文献:
公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
法律状态:
优先权:
申请号 | 申请日 | 专利标题
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